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沪市，张江技术园区。

中微半导体总部的四周，布置了密密麻麻的电网和监控器，安保力量更是配备齐全。

一座不起眼的工厂里，沙领导、郑韩等一众领导，在陆飞的带领下，来到车间外。

隔着玻璃窗，就能看到一个巨型公交车大小的光刻机，身穿防尘服的工作人员正在操控这样的庞然大物，一个工作台完成扫描曝光的同时，另一个工作台也进行对准、调焦、下片等行动。

“因为芯片制造的过程中，并不是一次曝光就可以完成，而是需要经历多次曝光。”

“在曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动，接着曝光下一個需要曝光的区域，想要在这么多次快速移动中实现纳米级别的对准，双工作台就必须做到精度高而且操作时间短，这项技术本来只有ASML有，但现在已经被我们突破了。”

陆飞滔滔不绝，如数家珍。

领导们一言不发，目不转睛地盯着运行中的光刻机，虽然不是第一次见到光刻机，但一想到这是第一台国产的DUV浸润式光刻机，都压不住激动的心情，尽可能地往前靠，想凑得更一些，看得更清楚一些。

“了不起啊，小陆，你们了不起啊。”

沙领导满意道：“我记得是7年前还是8年前，也是在这里，你让我看的是65nm干式光刻机，还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机，我本来以为要花10年甚至更长的时间，没想到你给了我们一个大大的惊喜啊！这么快让你们搞出来了！”

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