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第一三八六章 光刻机的现状(下)

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“董事长,要是Nikon在我们之前,率先攻克157nm激光器技术,率先研发成功65nm制程工艺的光刻机,我们如何应对?”

CTO汤普森知道EUV光刻机不是短时间内能研制成功的,也主张两条腿走路,GCA研究院如今也在研发157nm激光器,由于GCA一直以研发EUV为主,157nm激光器的技术远不如Nikon和SVG,投资10美元,要是能够收购SVG,拿到SVG独有的157nm激光器需要配置的反折射镜头技术,不能反超Nikon,也能同Nikon并肩齐驱。

孙董事长不同意公司收购SVG,汤普森也不理解。

EUVLLC联盟规划投资2亿美元,集合200多位顶尖科学家,目的就是从理论上验证了EUV光刻机的可行性?理论验证完成后,EUVLLC联盟将宣布解散,将研制EUV和EUV光刻机的难题交给GCA,据同行在一起估算,研发投资起码要花50亿美元!

汤普森领导EUVLLC联盟的200多位科学家,研究了2年多,还没有验证清楚EUV光刻机的可行性?

“汤普森院长的担忧也有道理,除了加强研发力量继续研究157nm激光器技术外,艾德里安先生可以同Papken先生接触一下,看对方是否愿意出售反折射镜头技术的专利?价格可以商量”

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